特种气体减压装置

YZQ特种气体减压装置 产品说明

本实用新型针对上述问题，提供一种气体减压装置，该装置能够对减压后的气体压力及流速进行精确控制。气体减压阀是一种无需外加能源，利用被控介质自身能量当动力源、引入执行膜室产生推力，控制节流元件运动达到自动调节。具有测量、执行、控制的综合功能。主要用于气体管路，如空气、氮气、氧气、氢气、液化气、天然气、氨气等气体。属于先导活塞式减压阀。通过调节调节弹簧压力设定出口压力，利用膜片传感出口压力变化，通过导阀启闭驱动活塞调节主阀节流部位过流面积的大小，实现减压稳压功能。可在无气、无电的场所。广泛应用于石油、化工、电站、轻工、印染工业部门自控系统中各种设备气体介质的减速压、稳压（用于阀后压力调节）的自动控制。根据用户不同的工况条件可选用不同的阀芯结构型式以及不同执行机构，以达到控制效果。由于气体的流速比较快，选用气体减压阀时应该充分考虑气体的特性，就此德国沃德工程师详细介绍如下：

　特种气体其中主要有：甲烷、乙烯、正戊烷、正丁烯、正丁烷、异戊烷、异丁烯、异丁烷、乙烷、一氧化碳、一氧化氮、一甲胺、一氟甲等。单一气体有259种，其中电子气体115种，有机气体63种，无机气体35种，卤碳素气体29种，同位素气体17种。

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、高纯气体和标准气体三种，广泛应用 于电子半导体、化工、医疗、环保和装备制造等L域。到目前为止，特种气体中单元纯气体共有260种。下面为您做详细介绍：

1、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序；电器、食品包装、化学等工业也要用氮气。

2、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、校正气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。

3、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、氮化、喷射、等离子干刻、载流、退火、搭接、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。

4、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学、冶金等工业中也有用。

5、氦气-He,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。

6、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外,用于水净化、纸浆与纺织品的漂白、下业废品、污水、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。

7、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫和金属氟化物等。

8、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采矿、橡胶等工业。

9、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。

10、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。

11、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、在线仪表标推气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、载流工序警另外,还用于特种混合气、发电、气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理、饮料充气、烟雾喷射剂、食品贮存保护气等。

12、N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。

13、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。

14、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延丫、化学气相淀积等工序；另外,用作溶剂、有机物的氯化剂、香料的浸出剂、纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。

15、氰化氢-HCN,>99.9,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；氰氯化物；也用于制备丙烯睛和丙烯衍生物的合成中间体。

16、碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半寻体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用作氟化剂。

17、碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正气；用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸盐和噻唑的合成。

18、碘化氢-HI,>99.95%,用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；还用于溶液制备。

19、嗅化氢-HBr,>99.9%,用于半导体制备工艺中等离子干刻工序；用作还原剂,制备有机及无机澳化合物。

20、硅烷-SiH4,>99.999%,电阻率>100Ω/cm2,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积等工序。

21、乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半导体制备工艺中化学气相淀积。

22、磷烷-PH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序；磷烷与二氧化碳混合的低浓度气体,可用于杀死粮仓的虫卵和制备阻火化合物。

23、砷烷-AsH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序。

24、B2H6,>99.995%,用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、氧化等工序；用于有些化学工业合成过程:如氢硼化反应(即生成醇类),有机功能的衰退,制备较高的化合物。

25、锗烷-GeH4,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序。

26、锑烷-SbH3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序。

27、四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。

28、乙烷-C2H6,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；还用于冶金工业的热处理,化学工业中制备乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇类、乙醛等。

29、丙烷-C3H8,>99.99%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外,用于燃料、冷冻剂、制备乙烯与丙烯的原料。

30、硒化氢-H2Se,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。

31、碲化氢-H2Te,>99,999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。

32、二氯二氢硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。

33、三氯氢硅-SiHCl3,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。

34、二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。

35、二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。

36、二甲基锌(CH5)2Zn,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。

37、二乙基锌(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。

38、PCl3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中扩散,锗的外延生长和离子注入工艺；PCl3是有机物的良好氯化剂；也用于含磷有机物的合成。

39、-AsCl3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中的外延和离子注入。

40、三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等离子干刻、扩散；作硼载气及一些有机反应的催化剂；精炼镁、锌、铝、铜合金时从溶化金属中除掉氮、碳、氧化合物。

41、四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。

42、四氯化锡-SnCl4,>99.99%,用于外延、离子注入。

43、四氯化锗-GeCl4,>99.999%,用于离子注入。

44、四氯化钦-TiCl4,>99.99%,用于等离子干刻。

45、PCl5,>99.99%,用于外延、离子注入。

46、-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、离子注入。

47、六氯化钥-MoCl6,>99.9%,用于化学气相淀积。

48、三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半导体器件制备工艺中离子注入工序和制备光导纤维。

49、三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、离子注入。

50、磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于扩散工序。

51、-BF3,>99.99%,用于离子注入；另外,可作载气、某些有机反应的催化剂；精炼镁、锌、铝、铜合金时从熔化金属中除掉氮、氧、碳化物。

52、三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、离子注入工序；另外用作氟化剂。

53、三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。

54、二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、离子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反应堆排放废气中氮的测定。

55、三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等离子干刻工序；冷冻剂、空调均可用。 56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等离子干刻工序;低温冷冻剂。

56、三氟化氮-NF3>99.99%,用于等离子干刻工序;火箭推进剂、氟化剂。

57、三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等离子干刻工序;还用于空调、低温冷冻及灭火剂。

58、11-B11F3,>99.99%,用于离子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是浓缩含有96%同位素BF3);还用于制备光导纤维。

59、-11-B11F3,>99.99%,用于离子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是浓缩含有96%同位素BF3);还用于制备光导纤维。

60、四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等离子干刻工序;在很低温度下作为低温流体用;也用于中性及惰性气体。

61、四氟化硫-SF4,>98%,用于等离子干刻工序;氟化剂、表面处理剂。

62、四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化学气相淀积工序;制备氟硅酸及其盐类。

63、四氟化锗-GeF4,>99.999%,用于离子注入工序。

64、五氟化磷-PF5,>99.9%,用于离子注入、等离子干刻工序;另外,用作氟化剂,聚合、烃化及脱烃化反应、烃类裂化反应时作催化剂。

65、五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等离子干刻工序;另外,作冷冻剂、烟雾喷气剂。

66、五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、离子注入工序,氟化剂。

67、六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等离子干刻工序;用作冷却、冷冻剂和空调;单体生产的原料;化学反应中的添氟剂、电器设备的绝缘剂。

68、六氟化硫-SF6,>99.99%,用作标准气;用于化学气相淀积工序;由于在高电压下具有很高的电阻,用作电器设备的绝缘剂;检漏气体,实验室中作色谱仪的载气。

69、六氟化钨-WF6,>99.99%,用于化学气相淀积工序;强烈的氟化剂;也用作钨载体。

70、六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等离子干刻工序。

71、六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。

72、六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。

73、六氟化铼-ReF6,>97%,用于离子注入工序;氟化剂。

74、八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等离子干刻工序;与氟利昂相混合作冷冻剂;高压电的绝缘剂。

75、八氟环丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等离子干刻工序;用作冷却剂、冷冻剂;作电器和电子设备的气体绝缘。

76、十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等离子干刻工序;也可与CF4相混用。

77、三甲基铝-(CH3)3Al,>99.999%,用于化学气相淀积工序;金属的有机合成。

78、三甲基镓-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。

79、三甲基锑-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。

80、三甲基锢-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。

81、三乙基铝-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。

82、三乙基镓-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。

83、-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化学气相淀积工序。

84、丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等离子干刻工序。

85、1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作标准气、校正气、医疗气;用于半导体器件制备工艺中热氧化工序;另外,用于金属的脱脂剂和脂肪、油、石蜡等萃取剂,衣服干洗,冷冻剂,杀菌剂。

86、甲烷-CH4,99.999%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;作燃料、宇宙飞船中气体电池。

87、甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作标准气、校正气;用于有机合成;作为喷气燃料添加剂,杀真菌剂和蛋氨酸的中间体。

88、一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促进剂、药物、染料和等,并作溶剂、有机合成、醋酸人造纤维。

89、甲醇-CH3OH,>99.9%,用作标准气,与空气混合后作校正气;用于制备甲醛和农药乡用于有机物质的萃取剂和酒精的变性剂。

90、二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化剂;在溶液中作浮洗.剂、汽油稳定剂、橡胶加速剂等。

91、二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化学工业中用作配制合成橡胶和甲硫醚;用作甲基剂、萃取剂、溶剂;也用作制冷剂。

92、乙炔-C2H2,>99.9%,用作标准气、校正气;化学工业中的中间体,如制备乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光谱。

93、乙烯-C2H4,>99.99%,用作在线仪表标准气、标准气、校正气;是化学 工业合成中的重要原料,生产塑料的中间体,生产乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷冻剂、某些水果、蔬菜生长的加速剂。

94、氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作标准气、校正气、医疗气;与CO2、R11、R21相混合作消毒剂,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化学工业中用作中间体,生产液体或固体聚乙二醇、乙醇胺类等。

95、溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有机合成的中间体,用聚合法与共聚法来制备塑料。

96、一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作为下列化学工业制备中的中间体:着色剂,电镀池、硫化增速剂等;还用于制药、表面活性剂、萃取剂。

97、四氟乙烯-C2F4,>99%,在生产塑料时作为一种重要的单体,如泰氟隆等。

98、乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正气;用于制备酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成树脂等。

99、二甲基-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正气、溶剂。

100、二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正气、溶剂。 101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正气;用于溶剂,制备染料、涂料、药物、合成橡胶等。

102、乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙酰化剂和化学试制。

103、1-羟亚乙基-1,1双磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,简称HEDPA,用于特殊的洗涤、纺织漂白分离剂、磨料和环境卫生;在石油和气田中用作防腐剂。

104、环丙烷-(CH2)3,>99%,用于有机合成;医药上作麻醉剂。

105、甲基乙炔-C3H4>99%,用作在线仪表标准气、校正气;用于制备丙酮;化学工业中作合成中间体。

106、CF3COCF3,>99.9%,是强烈的反应气,常与脂肪酮发生化学反应,用这些酮类可制备不同的产品,如稳定的液体、溶剂、水泥、单体、共聚物,以及农业及药物产品。

107、三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作标准气,溶液中含25%的三甲胺可作抗组胺治疗处理;在化学工业中作中间体,用来生产杀虫剂、润湿剂、发泡剂、合成树脂等表面活性剂。

108、丙烯-C3H8,>99.9%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;在化学工业上用作制备异丙醇、氧化丙烯、氧基醇类、四氯化碳、聚丙烯等。

109、丙二烯-C3H4,99%,在线仪表标准气;用于有机合成中间体。

110、氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又称1,2-环氧丙烷),用于制备丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纤维素、硝酸纤维素和树脂等的溶剂。

111、甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作标准气;用于有机合成中间体;塑料和合成树脂制备时的原料及共聚物的生产。

112、六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有机合成中间体。

113、CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制备盐酸、丙酸;用作氧化剂。

114、正丁烷-C4H10,>99.99%,用作标准气、校正气;用作燃料,商业上主要和异丁烷混合用;化学工业中作制备中间体:乙烯、丙烯、丁烯等;作烟雾喷射剂;充入温度计球作标准蒸汽压型的压力表;与氦混合用作电离粒子计算器。

115、异丁烷-iC4H10,>99.99%,用作标准气、校正气;用途同(114)。

116、乙基乙炔-C4H5,>99%,用作标准气、校正气;化学工业中作为合成中间体。

117、环丁烷-(CH2)4,>99%,作为液体溶剂,或与其它溶剂混合使用;也可作为合成中间体。

118、丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作标准气、校正气;用于有机化合物的制备中间体;催化脱氢生成丁二烯。

119、顺丁烯-2C4H8,>99%,用作标准气、校正气;用于有机化合物的制备中间体;催化脱氢生成丁二烯、酸式硫酸盐,加水生成丁醇-2等;也可用作溶剂。

120、反丁烯-2-C4H8,>99%,用作标准气、校正气;用途同(119)。

121、顺与反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正气;用途同(119)。塑料和树脂,生产尼龙-6;也是火箭燃料组成部分。

122、1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正气;用聚合法和共聚法来生产合成橡胶、塑料和树脂,生产尼龙-66;也是火箭燃料组成部分

123、异丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正气,用于有机中间体,使氧化产生丙酮和甲酸,在液相或气相中催化使生成双异丁烯等;也可用来制备合成橡胶,有很高的耐酸碱度;是良好的绝缘体。

124、八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有机合成中间体。

125、二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接触到氧化剂,反应剧烈;与二氧化碳混合,遇到汞会产生爆炸反应。

126、正戊烷-C5H12,>99%,用作标准气、校正气;作溶剂及合成中间体。

127、异戊烷-iC5H12,>99%,用作校正气;用途同(126)。

128、2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生产异丁烯的原料,用于生产合成丁烯橡胶。

129、3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有机合成中间体;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。

130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制备氯化氢与特戊酸;可与强氧化剂反应。

131、苯-C5H6,>99.999%,用作标准气、校正气、零点气;是染料、塑料、合成像胶、合成树脂、合成纤维、合成药物和农药的原料。

132、己烷-C6H14,>99.9%,用作标准气、校正气;作溶剂。

133、三乙基铝三氯-C6H15 Al2Cl3,>99.99%,用于合成中间体;烯类聚合催化剂,芳烃衍生物聚合的催化剂。

134、环己烷-C6H12,>99.99%,用作标准气;用于制备环己醇和环己酮;用于合成耐6;在涂料工业中广泛用作溶剂,也是树脂、脂肪、石蜡、油类的溶剂。

135、己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制备氯化氢与肥酸。

136、甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零点气、校正气;用于制造糖精、染料、药物和等;也用作溶剂。

137、苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正气;用于制树脂、塑料、合成橡胶等。

138、2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制备氯化氢和2-乙基己酸。

139、辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl,>99.9%,是氧化剂;可用于制备盐酸与辛酸。 140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作还原剂。

141、壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,>99.9%,用于制备盐酸与壬酸。

142、新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制备盐酸与新癸酸。

143、三异丁基铝-C12H27,Al,(简称TIBA),>99.99%,用于合成中间体,是聚合烯类和二烯类的催化剂。

144、十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,>99.9%,用于制备盐酸与月桂酸。

145、十八酰氯-CH3(CH2)18COCl,＞99.9%,用于制备盐酸与硬醋酸。

146、黄-C20H14O4,>99.9%,医疗用作泻药。

147、空气(或合成空气)-21%O2,79%N2,用作零点气,超零点级空气中含CnHm<0.lppm,零点级空气中含CnHm<0.2ppm。零点级空气经常用于色谱仪火焰离子化检定器和总碳量分析仪中的氧化剂。

148、仲氢-H2,>99.99%,用作火箭推进剂;核工业中用于气泡室;冷电子工程低温液态供固体电路研究用。

气体减压阀（ reducing valve）是采用控制阀体内的启闭件的开度来调节介质的流量，将介质的压力降低，同时借助阀后压力的作用调节启闭件的开度，使阀后压力保持在一定范围内，在进口压力不断变化的情况下，保持出口压力在设定的范围内，

（1） 调压范围：它是指减压阀输出压力P2的可调范围，在此范围内要求达到规定的精度。调压范围主要与调压弹簧的刚度有关。

（2） 压力特性：它是指流量g为定值时，因输入压力波动而引起输出压力波动的特性。输出压力波动越小，减压阀的特性越好。输出压力必须低于输入压力—定值才基本上不随输入压力变化而变化。

（3） 流量特性：它是指输入压力—定时，输出压力随输出流量g的变化而变化的持性。当流量g发生变化时，输出压力的变化越小越好。一般输出压力越低，它随输出流量的变化波动就越小。

工作原理及结构：

减压阀出厂时，调节弹簧处于未压缩状态,此时主阀瓣和付阀瓣处于关闭状态,使用时按顺时针转动调节螺钉,压缩调节弹簧,使膜瓣移顶开付阀瓣,介质由a孔通过付阀座到b孔进入活塞上方,活塞在介质压力的作用下,向下移动推动主阀瓣离开主阀座,使介质流向阀后.同时由c孔进入膜片下方,当阀后压力超过调定压力时,推动膜片上移压缩调节弹簧,付阀瓣随之向关闭方向移动,使流入活塞上方的介质减小,压力也随之下降,此时的主阀瓣在主阀瓣弹簧力的推动上下移,使主阀瓣与主阀座的间隙减小,介质流量也随之减小,使阀后压力也随之下降到新的平衡,反之当阀后压力低于调定压力时,主阀瓣与主阀座的间隙加大,介质流量也随之增加,使阀后压力也随之增高达到新的平衡.

按照本实用新型的技术方案：一种气体减压装置，其特征在于：包括进气管接头，进气管接头的出气端与减压阀的进气端密封连接，减压阀的出气端密封连接比例阀安装块，比例阀安装块上安装比例阀，比例阀安装块的出气端密封连接气路通道，气路通道的出气端密封连接出气通道，出气通道密封连接出气管接头，所述出气通道的压力检测接口连接软管，软管的另一端连接到差压传感器的一个检测口，差压传感器的另一个检测口连接大气。

在高压气源进入减压装置后，减压阀2将气源压力降低到4Bar的压力范围内，起到保护比例阀3和稳定气压的作用。出气管接头13采用可以更换的宝塔接头，可以根据需要连接的检测设备跟换合适的接头，甚至可以跟换Y型接头，供两台检测设备同时使用。

本实用新型的技术效果在于：本实用新型可将压缩气体从高压状态减压成常压状态，并能精确控制出口端的气体压力和流量。采用压力检测的方式控制流量，避免了不同类型的气体因为密度、比热容等特性的不同而需要用不同的参数进行修正的限制，具有操作简单，实用性强的特点。

YZQ特种气体减压装置压力参数

减压阀流量系数(Cv)

主要零件材料

外形尺寸(PN1.6-4.0)单位：mm

外形尺寸(PN6.4-16.0) 单位：mm

本实用新型属于气体减压设备技术领域，涉及一种气体减压装置，包括进气管接头，进气管接头的出气端与减压阀的进气端密封连接，减压阀的出气端密封连接比例阀安装块，比例阀安装块上安装比例阀，比例阀安装块的出气端密封连接气路通道，气路通道的出气端密封连接出气通道，出气通道密封连接出气管接头，所述出气通道的压力检测接口连接软管，软管的另一端连接到差压传感器的一个检测口，差压传感器的另一个检测口连接大气。该装置能够对减压后的气体压力及流速进行精确控制。调节调节弹簧压力设定出口压力、利用膜片传感出口压力变化，通过导阀启闭驱动活塞调节主阀节流部位过流面积的大小，实现减压稳压功能。

压力调整步骤

按照以下步骤慢慢转动调节螺丝，即可完成设定。不当的调整操作可能形成水击或砰砰作响声等，可能对减压阀或其他设备造成损坏。

（1）关闭减压阀前后截断阀，在保证安全阀不起跳的情况下，开启旁路管线截断阀并保持足够的时间，以完成利用流通介质对管道中的异物或锈层的吹扫去除。吹扫完成后，关闭旁路管线截断阀。

（2）缓慢打开安装在减压阀前的截断阀，并调整减压阀后截断阀的开启度，保持管道有小流量通过。

（3）松锁紧螺母，缓慢转动调整螺丝，并观察阀后的压力表，直到要求的设定植为止（顺时针转动压力上升，逆时针转动压力下降）。对于带手柄的型号，由于正常状态下，手柄处于自锁位置，因此调整压力时，应首先按下手柄，松开自锁，再缓慢转动调整螺丝，并观察阀后的压力表，直到要求的设定植为止（顺时针转动手柄时，阀后压力上升；逆时针转动手柄时，阀后压力下降。

（4）缓慢打开减压阀后截断阀，并按照步骤（3）进一步调整阀后压力，直到要求的设定植为止。

（5）完成调整后，拧紧锁紧螺母。对于带手柄的型号，拉出手柄，利用内部装置锁紧；如果手柄没有锁紧，左右转动手柄，即可完成自锁动作。

开启    

1、检查气瓶阀门和减压器密封性，确认良好后进行下步操作。    

2、把减压器调节螺杆逆时针方向旋转到调节弹簧不受压力为止，此时低压表读数为零。    3、逆时针方向缓慢转动气瓶阀门，直到高压表指示出瓶压读数。此操作期间不要站在减压器的正面或背面。    

4、顺时针方向旋转减压器调节螺杆，直到低压表达到所需的工作压力。如果压力过高，则旋送调节螺杆，放出部分气体后重新调节。    

二、关闭    

1、沿顺时针方向转动气瓶阀门至*关闭。    

2、打开设备上的阀门将减压器内的气体全部排出，然后关闭阀门。    

3、逆时针方向旋转减压器调节螺杆到调节弹簧不受压力为止，此时低压表、高压表读数均为零。

订货须知：

一、①产品名称与型号②口径③是否带附件以便我们的为您正确选型④的使用压力⑤的使用介质的温度。
二、若已经由设计单位选定公司的型号，请按型号直接向我司销售部订购。

三、当使用的场合非常重要或环境比较复杂时,请您尽量提供设计图纸和详细参数，由我们的阀门公司专家为您审核把关。如有疑问：请：我们一定会尽心尽力为您提供优质的服务。提供全面、专业的“阀门系统解决方案"，也十分愿意帮助用户解决生产中所遇到的难题。